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On Wafer WLS無線晶圓測溫系統(tǒng)

On Wafer WLS無線晶圓測溫系統(tǒng) On Wafer WLS無線晶圓測溫系統(tǒng)通過自主研發(fā)的核心技術將傳感器嵌入晶圓集成,實時監(jiān)控和記錄晶圓在制程過程中的溫...

On Wafer WLS無線晶圓測溫系統(tǒng)

On? Wafer WLS無線晶圓測溫系統(tǒng)通過自主研發(fā)的核心技術將傳感器嵌入晶圓集成,實時監(jiān)控和記錄晶圓在制程過程中的溫度變化數(shù)據(jù),為半導體制造過程提供一種高效可靠的方式來監(jiān)測和優(yōu)化關鍵的工藝參數(shù)。

【應用場景】濕法清洗、干法刻蝕(工藝專用型號:WLS-EH)

【產品優(yōu)勢】

1. 無線測溫采集:傳感器無需有線連接即可傳輸數(shù)據(jù),滿足晶圓在復雜性狀況下通過無線通信方式進行溫度測量。

2. 實時測溫監(jiān)測:系統(tǒng)可以提供實時溫度讀數(shù),通過測溫數(shù)據(jù)觀察晶圓在工藝過程中的溫度變化過程。

3. 滿足高精度測量:采用高精度溫度傳感器確保數(shù)據(jù)的準確性,晶圓生產過程中精確控制工藝條件至關重要。

4. 測溫數(shù)據(jù)分析能力:測量后的數(shù)據(jù)通過軟件分析和優(yōu)化工藝參數(shù),提高產量和產品質量。

5. 支持過程調整與驗證:通過分析在產品工藝條件下收集的溫度數(shù)據(jù)實現(xiàn)調整蝕刻和其他關鍵工藝步驟的條件,以確保最佳性能。

6. 全面熱分布區(qū)監(jiān)測:在晶圓上支持多達81個位置同時進行溫度監(jiān)測,從而獲得全面的熱分布圖。

【參數(shù)配置】

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